QQ咨询
电话咨询

0512-67266051

订购流程

咨询确定型号和数量——签订合同——收货和发票——付款;

原位芯片生产的TEM氮化硅膜窗格由先进的微电子工艺打造,可用于微纳米样品高分辨电镜观测。此款窗格为3mm外径的八边形,适用于所有TEM样品杆,为适用于多种实验条件,原位芯片为科研人员提供了单窗格,多窗格及微孔窗格三种标准产品。氮化硅膜采用低应力技术(<250MPa),氮化硅膜薄透且不易破损,非常适合于前沿的生物、材料、物理、化学等方面的研究。

产品特点


超洁净

 100级洁净环境

 严格选用硅衬底材料

 先进的工艺水平

高强度

 薄膜应力<250Mpa

 薄膜最薄可至10nm

 窗口大小可至2cm

超平整

 粗糙度低于0.5nm

 均匀性优于5%

理化稳定性优良

 耐酸(氢氟酸除外),耐碱,耐有机溶剂

易使用等离子体清洗

强流电子束耐受

技术参数


外框项目 参数 外框项目 参数
材料 N型硅 电阻率 1~10Ω-cm
氮化硅膜参数 参数 氮化硅膜参数 参数
材料 LPCVD 氮化硅薄膜 应力 <250MPa
介电常数 6-7 介电强度 10(106 V/cm )
电阻率 1016Ω-cm 粗糙度(Ra) 0.28±5%nm
杨氏模量 270GPa 粗糙度(Rms) 0.40±5%nm

应用范围


纳米材料,半导体材料,光学晶体材料,功能薄膜材料

胶体,气凝胶,有机材料和纳米颗粒的表征实验

含碳样品分析(光阻剂,聚合物,食品,油品,燃料等)

作为生物、细胞载体

产品规格


—— TEM单窗格氮化硅膜 ——

衬底200um厚, 3mm直径标准TEM氮化硅窗
产品编号 膜厚 窗口尺寸 立即购买
SG010Z 10nm 0.10×0.10mm
SG015Z 10nm 0.15×0.15mm
SG025Z 10nm 0.25×0.25mm
SG050Z 10nm 0.50×0.50mm
SG025A 15nm 0.25x0.25mm
SG050A 15nm 0.5x0.5mm
SG100A 15nm 1x1mm
SG025B 30nm 0.25x0.25mm
SG050B 30nm 0.5x0.5mm
SG100B 30nm 1x1mm
SG025C 50nm 0.25x0.25mm
SG050C 50nm 0.5x0.5mm
SG100C 50nm 1x1mm
SG050D 100nm 0.5x0.5mm
SG025E 200nm 0.25x0.25mm
SG050E 200nm 0.5x0.5mm
每盒包含10枚芯片

—— TEM多窗格氮化硅膜 ——

多窗口阵列,衬底200um厚, 3mm直径标准TEM氮化硅窗格
产品编号 膜厚 窗口尺寸 窗口数 窗口间距 立即购买
AR010Z 10nm 0.1x0.1mm 9 0.35nm
AR010A 15nm 0.1x0.1mm 9 0.35mm
AR010B 30nm 0.1x0.1mm 9 0.35mm
AR010C 50nm 0.1x0.1mm 9 0.45mm
TA015A 15nm 0.1x1.5mm 2 0.45mm
TA015C 50nm 0.1x1.5mm 2 0.45mm
每盒包含10枚芯片

—— TEM微孔氮化硅膜 ——

微孔阵列,衬底200um厚, 3mm直径标准TEM氮化硅窗格
产品编号 膜厚 窗口尺寸 孔径 阵列 孔心间距 立即购买
ME050B 30nm 0.5x0.5mm 2.8µm 45x45 10µm
ME050C 50nm 0.5x0.5mm 2.0µm 45x45 10µm
ME050C10 50nm 0.5x0.5mm 10µm 32x32 15µm
ME050E05 200nm 0.5x0.5mm 5µm 49x49 10µm
每盒包含10枚芯片

—— TEM纳米孔氮化硅膜 ——

微孔阵列,衬底200um厚, 3mm直径标准TEM氮化硅窗格
产品编号 膜厚 窗口尺寸 孔径 阵列 孔心间距 立即购买
NE005C10 50nm 50×50µm 1.0µm 15x15 2.0um
NE050C10 50nm 0.5x0.5mm 1.0µm 15x15x4 5.0µm
NE005E10 200nm 50×50µm 1.0µm 15x15 2.0µm
NE050E10 200nm 0.5x0.5mm 1.0µm 15x15x4 5.0µm
每盒包含10枚芯片