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原位芯片带您走进2019年谱学纳米显微研讨会

2019-11-20

11月13日-15日,2019年谱学纳米显微研讨会(Spectro Nanoscopy 2019 Workshop )在上海光源隆重召开,来自中国、加拿大、韩国、美国等海外知名同步辐射装置的100余名专家学者参加了本次会议。


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谱学纳米显微研讨会简介

谱学纳米显微研讨会是在亚太地区同步辐射谱学显微研究领域的国际会议,旨在促进亚太地区各国同步辐射研究组织之间的学术交流,提升亚太地区各同步光源之间的合作,以及世界范围内同步辐射研究领域的科学家和工程师之间的共同研究与合作。2013年第一次会议在韩国光源举行。
第七届谱学纳米显微研讨会由上海光源主办,以“同步辐射软X射线谱学显微技术,硬X射线成像技术,未来光源的先进成像技术,各种纳米成像技术及重要应用”为主题,推进了亚太各同步光源装置之间的合作,培训更多高水平的国内用户群体,同时向参会代表们展现了中国同步辐射研究领域的成果以及未来二期工作的发展计划!


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图为会议现场


苏州原位芯片科技有限公司应邀参加了本次会议,并布设了专属展位供大家交流学习,重点展示了原位芯片研发的专门用于同步辐射/扫描电子显微镜(SEM)及透射电子显微镜(TEM)的标准氮化硅膜窗格和原位加热芯片及原位液体芯片。目前原位芯片已经为国内众多高校课题组和电镜中心开发多款定制芯片。参会专家及研究人员对原位芯片打破国外垄断、自主研发生产的高质量标准氮化硅膜窗口和原位实验观测芯片给予高度评价!


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图为原位芯片展位


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图为参会老师在展位上咨询

本次会议设立大会报告,分组报告,海报展示等方式邀请国内外光源用户专家介绍了包括亚太地区同步光源的最新进展、最新同步辐射应用研究领域和方向、未来谱学显微装置的建设与规划,光束线站实验仪器和技术的发展和革新,以及同步辐射X射线在生物、材料、物理、化学等科学研究领域以及工业上的最新应用及成果!


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图为上海光源部分设备

15日下午,参会人员集体参观了上海光源,本次会议圆满落幕。